CMOS“互補金屬氧化物半導體”全自動超聲波清洗機

在計算機領(lǐng)域，CMOS常指保存計算機基本啟動信息（如日期、時間、啟動設(shè)置等）的芯片。有時人們會把CMOS和BIOS混稱，其實CMOS是主板上的一塊可讀寫的并行或串行FLASH芯片，是用來保存BIOS的硬件配置和用戶對某些參數(shù)的設(shè)定。

在今日，CMOS制造工藝也被應用于制作數(shù)碼影像器材的感光元件，尤其是片幅規(guī)格較大的單反數(shù)碼相機。

一、設(shè)備概述：

威固特公司生產(chǎn)的CMOS“互補金屬氧化物半導體”全自動超聲波清洗機，整個工藝流程使用PLC編程控制，可根據(jù)清洗工藝要求，靈活設(shè)置動作參數(shù)。采用全自動化運行過程，用來清洗CMOS“互補金屬氧化物半導體”效果特別好，溶劑保持潔凈時間長，實現(xiàn)清洗流程的自動化作業(yè)，降低操作人員勞動強度，提高設(shè)備的生產(chǎn)能力和清洗效果。

二、結(jié)構(gòu)組成：

超聲波清洗系統(tǒng)：采用SUS不銹鋼制作，采用日本技術(shù)超聲換能器、發(fā)生器；

多臂式機械輸送裝置：PLC控制、伺服電機、伺服驅(qū)動器、減速器、直線導軌、氣缸及其他配置；

過濾系統(tǒng)不銹鋼過濾器：水泵、過濾器、閥門、管路、過濾棉芯；

加熱系統(tǒng)：加熱管、液位控制、溫度器及其他配置；

水快進快出系統(tǒng)：儲水箱、氣動閥、液位控制器、電磁水閥等；

自動進出料系統(tǒng)：電磁閥、氣缸、導軌及其它配置；

進排液管路：全部采用不銹鋼材料制做；

電氣控制裝置：PLC控制、電控材料、數(shù)顯觸摸屏；

底盤機架：不銹鋼材料制作。

三、清洗工藝流程：

自動上料→1.超聲波洗劑清洗→2.純水漂洗→3.超聲波漂洗→4.超聲波漂洗→5.超聲波漂洗→超聲波漂洗→自動下料。

四、清洗優(yōu)勢：

威固特全自動超聲波清洗機被公認為當前效率最高，效果最好的清洗方式，其清洗效率達到百分之九十八以上，清洗潔凈度也達到最高級別，而傳統(tǒng)的手工清洗和有機溶劑清洗的清洗效率僅僅為百分之六十到百分之七十,即使是氣相清洗和高壓水射流清洗的清洗效率也低于百分之九十；因此，CMOS“互補金屬氧化物半導體”全自動超聲波清洗機以其效率高、效果好，適用于大工作量清洗的特性無疑是清洗的最佳選擇，這也是為什么凡是對潔凈度要求高的行業(yè)都會優(yōu)先選擇威固特超聲波清洗機來清洗的原因。

五、注意事項：

1、檢查機器是否安裝妥善，將所有的支撐腳旋下，將機器調(diào)至水平位置；

2、將所有的電源開關(guān)置于“關(guān)”的位置，檢查電源是否合乎要求，機殼接地是否可靠；

3、檢查供水與排水管路連接是否正確；

4、清洗槽內(nèi)無清洗液時，絕對不能啟動過濾，否則會損壞水泵；

5、槽內(nèi)無清洗液時，絕對禁止加熱，否則會損壞發(fā)熱設(shè)備；

6、不得將物體直接放入清洗槽中清洗，如有異物落入槽底應及時取出；

7、每周要對清洗機進行潔凈，這樣可以提高超聲波清洗的壽命；

8、清洗劑的更換周期：用戶根據(jù)工件的清洗工件量及清洗液的干凈程度來決定；

9、不可將液體濺濕到加熱器；

10、更換清洗液時，應關(guān)閉噴淋泵，停止加熱，清洗液溫降至常溫后進行；

11、各清洗槽內(nèi)沉積物過多時應及時放液沖洗清除；

12、在清洗槽注滿清洗液的情況下應盡量避免推動或搬移清洗機；

13、下班或不使用時，請關(guān)閉所有加熱，水泵及超聲波。若是長時間停止使用清洗機，請將電氣控制柜內(nèi)的總電源開關(guān)斷開。